第96章 光刻機

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時間如流水，匆匆而過，武落平在老師的提醒下抽時間辦理了開學手續，然後又回到實驗室。

散熱問題也接踵而至，如洶湧的浪潮般，一波接著一波地衝擊著研發的程序。隨著晶片整合度以驚人的速度提高，發熱這一現象逐漸成為了影響晶片效能和穩定性的關鍵因素。那微小的晶片內部，無數的電晶體在高速運轉，產生的熱量積聚如同隱藏的火山，隨時可能爆發，威脅著整個系統的正常執行。

面對這一嚴峻的挑戰，武落平不得不全力以赴地研發創新的散熱技術。從改進傳統的散熱片和風扇組合，到探索新型的液體冷卻和相變材料散熱，每一種可能的解決方案都被提上日程，反覆試驗。他必須確保晶片在高負荷執行時，如同一位堅韌的勇士，不會因為過熱而出現故障，不會在關鍵時刻掉鏈子。

同時，軟體的協同開發也變得至關重要，其重要性不亞於硬體的突破。晶片的強大效能需要與之完美匹配的軟體演算法來充分發揮，如同好馬需要好鞍相配。這對他來說很簡單，因為有小寶在！在程式碼的世界裡，每一行指令、每一個演算法的最佳化，都是為了讓晶片的潛力得到最大程度的釋放，共同最佳化系統的整體效能，使其如同一部精密的儀器，高效而穩定地運轉。

在這條從簡單到複雜的研發之路上，每一次看似微不足道的突破，都伴隨著無數次令人沮喪的失敗和刻骨銘心的挫折。試驗的反覆失敗，方案的推倒重來，資金和時間的巨大投入，武落平深知，前方或許還有更多的未知等待著，但他無所畏懼，因為每一次的挑戰都是成長的機遇，每一次的跨越都是通向輝煌未來的堅實階梯。

終於在他的努力下，晶片被一點點的做了出來，雖然還沒有達到他滿意的程度，但是有了一就會有無數，而且高精度的晶片也不是想做就能做出來的，這需要專業工具，他想到了光刻機來。想到這裡他找到了自己的老師:“老師，我有問題想請教您！”

“落平啊！”正在辦公室忙碌的老教授看到他好奇的問:“你的實驗完成了？有什麼困難嗎？說出來老師給你解決！”

“老師，沒有呢，我就是想問問您，您知道光刻機嗎？”

“光刻機？我記得今年國外有家公司提出過這個概念，但是他們好像還沒有研發出來呢，怎麼了？”

“老師，我研究的晶片想要提高精度就需要光刻機，這方面我沒什麼頭緒，老師能給我一些指點嗎？”

“光刻機，簡單來說，就像是一位極其精細的“微雕大師”。它的工作原理，充滿了科學的精妙和技術的挑戰。

首先，光刻機的核心任務是將晶片設計的圖案精確地轉移到矽片上。這就好比我們要在一個極小的舞臺上繪製一幅極其複雜且精確的畫卷。

在這個過程中，光刻機利用了光的特性。它透過一種特殊的光源，產生一束極細且高度準直的光線。這束光線經過一系列的光學系統，包括透鏡和反射鏡等，被聚焦到極小的一個點上。

而要被光刻的矽片表面塗有一層特殊的光刻膠。當光線照射到光刻膠上時，光刻膠會根據光線的強度和波長髮生化學反應。

透過控制光線的照射時間和強度，以及使用特殊的掩模版，掩模版上有著我們預先設計好的晶片電路圖案，光線就能按照這個圖案在光刻膠上進行曝光。

曝光後的光刻膠會發生性質的改變，經過後續的顯影、蝕刻等工藝步驟，未被光刻膠保護的矽片部分就會被蝕刻掉，從而在矽片上留下與設計圖案完全一致的微觀結構。

這一系列的操作，都需要在極其嚴格的環境條件下進行，要保證極高的精度和準確性，誤差往往要控制在幾個奈米甚至更小的尺度。這是他們當時釋出的時候說過的話。”

“老師，我明白了！”武