第129章 開啟光刻之路

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1985年，陽光暖暖地灑在首都燕京的大地上，微風輕拂，帶著一絲希望與未知的氣息。

機械廠vcd的研發並出口海外獲得成功，研發的資金已有，賈東旭每天都在思考如何利用系統的獎勵，為國家和社會做出一番大事業。在那個電子產業飛速發展的時代，半導體技術成為了各國競爭的焦點，而光刻機作為半導體制造的核心裝置，其重要性不言而喻。賈東旭敏銳地意識到，利用系統獎勵的技術提前研發中國光刻機，將是一個極具戰略意義的計劃，不僅能填補國內在這一領域的空白，還能讓中國在半導體產業中佔據一席之地。

“幹！就搞光刻機！”賈東旭在心中暗暗下定決心。

一、技術路線選擇

要研發光刻機，首先面臨的就是技術路線的選擇。在當時，光刻技術主要有接觸式光刻和步進式光刻兩種，接觸式光刻技術相對簡單，但精度較低，已經逐漸無法滿足半導體產業不斷提高的精度需求；而步進式光刻技術則代表著未來的發展方向，雖然技術難度大，但解析度更高，能夠滿足大規模積體電路製造的要求。

賈東旭看著系統提供的技術資料，心中有了明確的目標：跳過接觸式光刻，直接研發步進式光刻機（stepper）。這個決定在當時看來是相當大膽的，畢竟國內在光刻技術方面的研究還處於起步階段，直接挑戰高難度的步進式光刻技術，無疑是一場艱難的冒險。但賈東旭相信，憑藉系統提供的先進技術和自己的努力，一定能夠克服重重困難。

1 技術定位

- 目標：跳過接觸式光刻，直接研發步進式光刻機（stepper）；

- 技術引數：

- 解析度：15μ（同期日本尼康為12μ）；

- 產能：60片/小時（8英寸晶圓）；

- 光源：汞燈g線（436n）。

確定了目標後，賈東旭開始仔細研究各項技術引數。解析度15μ，雖然比不上同期日本尼康的12μ，但在國內已經是一個巨大的突破，而且隨著技術的不斷發展，還有很大的提升空間；產能60片/小時，對於初步研發的光刻機來說，也算是一個比較可觀的數字；光源選擇汞燈g線，這是當時比較成熟的光刻光源，技術相對穩定，能夠滿足現階段的研發需求。

“這些引數雖然不是最頂尖的，但對於我們來說，已經是一個很好的了。”賈東旭自言自語道，眼神中透露出堅定的信念。

2 系統技術包

有了明確的技術定位，接下來就是如何實現這些目標。幸運的是，系統為賈東旭提供了一系列強大的技術包，涵蓋了光學系統、機械系統和控制系統等光刻機的核心部件。

- 光學系統：

- 提取1986年蔡司鏡頭設計圖紙（na=042）；

- 提供多層抗反射膜鍍膜工藝。

光學系統是光刻機的核心之一，直接影響著光刻機的解析度和成像質量。系統提取的1986年蔡司鏡頭設計圖紙，讓賈東旭如獲至寶。蔡司作為全球光學領域的巨頭，其鏡頭設計技術一直處於世界領先水平。有了這份圖紙，賈東旭在光學系統的研發上就有了堅實的基礎。同時，系統提供的多層抗反射膜鍍膜工藝，能夠有效減少光線反射，提高光學系統的效率和成像質量，進一步提升了光刻機的效能。

“這蔡司鏡頭設計圖紙和多層抗反射膜鍍膜工藝，簡直就是雪中送炭啊！”賈東旭興奮地說道，彷彿已經看到了成功的曙光。

- 機械系統：

- 輸出高精度氣浮工作臺技術（定位精度±001μ）；

- 提供精密溫控方案（±001c）。

機械系統的精度和穩定性對